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            日本thermo紅外線導入加熱裝置

            日本thermo紅外線導入加熱裝置

            產(chǎn)品型號: GVH198 / GVH298 / GV154

            所屬分類:

            產(chǎn)品時間:2024-09-07

            簡要描述:日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154
            只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境(例如超高真空或氣流)中的樣品,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。?
            可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。

            詳細說明:

            日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154

             

            說明

            只能用精que的紅外光照射置于各種環(huán)境(例如超高真空或氣流)中的樣品,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。?
            可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
            Thermo Riko的主要型號。

            特點

            快速升溫:大加熱速度為150℃/秒,gao1500℃持續(xù)約1分鐘
            清潔加熱:無需擔心氣體的產(chǎn)生或熱源的電磁感應
            局部供暖:僅用紅外光照射樣品,不加熱周圍區(qū)域
            可自由連接:可以連接到各種系統(tǒng)

            用途

            快速加熱和退火樣品,例如Si和SiC
            在氧化氣氛中形成氧化物晶體,形成薄膜
            在氫氣和氮氣中加熱基材
            X射線或UV照射過程中樣品的溫度升高
            解吸氣體分析儀,XPS,XRD,PLD等的加熱
            磁場加熱,非磁場加熱
            在加壓氣氛中加熱
            通過對樣品施加載荷來加熱

            日本thermo紅外線導入加熱裝置GVH198 / GVH298 / GV154

            規(guī)格

            紅外線感應加熱裝置根據(jù)應用具有以下規(guī)格。 
              
             超高真空型支持 10 -9 Pa的超高真空。
             高速加熱型 大升溫速度為150℃/秒。
             常溫加熱型 可以對放置在大氣中的樣品進行點加熱。
             加壓氣氛類型 可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
             特殊規(guī)格 通過利用GV系列的功能,我們可以滿足各種要求,例如快速降低溫度,負載加熱和磁場加熱。
             請隨時與我們聯(lián)系。
             符合CE標志 我們還生產(chǎn)符合CE標志的規(guī)格。

            超高真空型GVH

            型號名稱GVH198GVH298
             紅外燈額定值1千瓦2千瓦
             gao溫度1200°攝氏度1400°攝氏度
             加熱面積φ20毫米
             大加熱速度1℃/秒
             大極限真空5×10 -9
             冷水量1升/分鐘2升/分鐘

            高速加熱型GV / GVL

            型號名稱GV154GV198GVL298GVL398
             紅外燈額定值500瓦1千瓦2千瓦3千瓦
             gao溫度1100°攝氏度1300°攝氏度1500°攝氏度1600°攝氏度
             加熱面積φ14毫米φ20毫米
             大加熱速度100°C /秒100-150°C /秒
             大極限真空5×10 -7
             冷水量1升/分鐘2升/分鐘

            加壓氣氛類型GVP

            型號名稱GVP198GVP298
             紅外燈額定值1千瓦2千瓦
             gao溫度1200°攝氏度1300°攝氏度
             加熱面積 φ20毫米
             大加熱速度 100°C /秒
             大耐壓 1MPa以下
             冷水量1升/分鐘2升/分鐘
            快速退火紅外感應加熱系統(tǒng)GV1 / GV2
            底部照射型紅外熱處理設備RTA198 / RTA298
            熱脫附氣體分析儀GV2H
            用于磁場中樣品加熱的紅外引入加熱系統(tǒng)GVL298M / GV154M / GV-M 1
            用于X射線形貌的紅外感應加熱裝置
            XPS設備安裝示例


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