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            半導體制造工藝中CMP后鉑殘留物去除案例分析
            
        
            發(fā)布時間：2023-07-11　點擊量：596 
            
        
             
           
            半導體制造工藝中CMP后鉑殘留物去除案例分析
            蝕刻后去除鉑殘留物
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            蝕刻后去除鋁殘留物
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            CMP后埋在凹槽中的泥漿去除
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            蒸汽清洗核心技術(shù)
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            蒸汽2流體清洗機組|SSC系列
            蒸汽雙流體清洗裝置“SSC系列"以超音速從超音速噴射噴嘴注入蒸汽和液體流體，在物體表面產(chǎn)生微空化以進行清潔。 通過將液體與蒸汽混合，產(chǎn)生兩種流體，并且清潔能力大大提高。 為了抑制金屬污染和微小異物的產(chǎn)生，在特殊材料上涂上表面涂層以產(chǎn)生高純度蒸汽。
            蒸汽2流體清洗機組基本信息|SSC系列
            長處由于它不與物體接觸，因此沒有耗材，運行成本大大降低。
            僅使用“純水"
            顯著減少用戶對化學品的使用
            也可以安裝在現(xiàn)有的清潔設備中
            無金屬污染，因此也可用于清潔半導體
            基本配置蒸汽發(fā)生器
            超聲波蒸汽噴射噴嘴
            與洗衣機的通信功能（可選）
            蒸汽發(fā)生器蒸汽產(chǎn)生量：2~100kg/h
            * 可提供與所需蒸汽量相對應的尺寸。
            使用電源：純水，200VAC
            蒸汽壓力控制范圍：0.05-0.3MPa
            應用/成就示例【應用】
            ?太陽能電池基板的清洗 
            ?LED制造中的金膜剝離（脫落）
            ?玻璃基板等的清洗 
            ?加工后去除油污和異物 
            ?涂裝前的清洗 
            ?去除粘合劑

            
        
            
      
            
      
    
            
  
            

            

            









 
  


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